A逻辑设计
B物理设计
C电路设计
D系统设计
对标准单元设计EDA系统而言,标准单元库应包含以下内容:()、和()、()、()。
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全定制、半定制版图设计中用到的单元库包含()、()、()和()。
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金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()
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什么叫光刻?光刻工艺质量的基本要求是什么?
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MEMSSi加工工艺主要分为哪两类,它们最基本的区别是什么?
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在突缘电阻焊工艺中,要获得良好的焊接质量,必须确定的基本规范包括()
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半导体集成电路生产中,元件之间隔离有()()()隔离等三种基本方法.
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门阵列的基本结构形式有两种:一种是晶体管阵列,一种是门阵列()
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物理气相淀积最基本的两种方法是什么?简述这两种方法制备薄膜的过程。
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