离子束的引出系统的间接引出系统中，阳极和插入电极之间形成一个离子密度较（）的等离子体。

离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。

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离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。

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引出系统要求能引出分散性较好的强束流，还希望具有较（）的气阻。

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离子源腔体中的气体放电形成（）而引出正离子的。

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硅-二氧化硅系统中含有的最主要而对器件稳定性影响最大的离子是（）。

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离子注入装置的主要部件有（）、分析器、加速聚焦系统等。

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为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。

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为了防止抽气设备对离子注入系统的油污染，可在靶室前增加一个（）或采用无油泵。

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离子束垂直进入均匀的正交磁场后，将同时受到电场力和（）的作用。

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