简述倒掺杂阱技术的步骤。
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以N阱CMOS工艺为基础的BiCMOS工艺有哪些优缺点？
简述光刻工艺的8个基本步骤。
制作硅栅具体步骤是什么？
光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤？
列出光刻的8个步骤，并对每一步做出简要解释。
简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。
在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
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什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
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