什么是离子注入中常发生的沟道效应(Channeling)和临界角?怎样避免沟道效应?
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什么是离子注入的横向效应?同等能量注入时,As和B哪种横向效应更大?为什么?
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什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应?如何解决?
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什么是两步扩散工艺,其两步扩散的目的分别是什么?
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假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散,从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。
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杂质原子的扩散方式有哪几种?它们各自发生的条件是什么?从原子扩散的角度举例说明氧化增强扩散和氧化阻滞扩散的机理。
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值称为共发射极电流放大系数,是晶体管的一个重要参数,也是检验晶体管经过硼、砷掺杂后的两个pn结质量优劣的重要标志。()
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恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
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在铜互连中,为什么要用铜扩散阻挡层?阻挡层分成哪几种,分别起什么作用?
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