在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。
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在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。
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沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物质。
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在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。
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在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。
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通常选熔断器熔断电流为电路额定电流的（）。
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半导体分立器件如何分类？
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半导体硅常用的施主杂质是（）。
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如何选用半导体分立器件？
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