沾污是指半导体制造过程中引入半导体硅片的任何危害微芯片（）的不希望有的物质。

净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。

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沾污引起的电学缺陷引起（），硅片上的管芯报废以及很高的芯片制造成本。

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在半导体制造中，熔断丝可以应用在（）。

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对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

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在半导体器件制造中，对清洗用水的纯度有比较高的要求，要用经过纯化的（）作为清洁用水。

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在半导体工艺中，淀积的薄膜层应满足的参数包含有（）。

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在半导体工艺中，如果淀积的薄膜不是连续的，存在一些空隙，则（）。

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在半导体工艺中，与氮化硅比较，二氧化硅更适合应用在（）。

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半导体硅常用的施主杂质是（）。

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