从电极的结构看，溅射的方法包括（）。

溅射的方法非常多其中包括（）。

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用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。

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一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

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（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

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采用热氧化方法制备的二氧化硅从结构上看是（）的。

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静电偏转电极和静电扫描器都是（）电容器。

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离子束的引出系统的间接引出系统中，阳极和插入电极之间形成一个离子密度较（）的等离子体。

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晶硅栅极刻蚀最大的挑战就是对二氧化硅的高选择性。超薄的（）使得在刻蚀多晶硅电极时对它的刻蚀要尽可能的小。

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