用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。

真空蒸发又被人们称为（）。

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真空镀膜室内，在蒸发源加热器与衬底加热器之间装有活动挡板，用来（）。

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从电极的结构看，溅射的方法包括（）。

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溅射的方法非常多其中包括（）。

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一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

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（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

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在将清洗完的硅片放进扩散炉扩散时，需要将硅片先装入（），然后再装入扩散炉。

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净化室将硅片制造设备与外部环境隔离，免受诸如（）的沾污。

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对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

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