（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

离子散射方向与入射方向的夹角，称为（）。

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离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。

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从电极的结构看，溅射的方法包括（）。

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溅射的方法非常多其中包括（）。

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一般来说，溅射镀膜的过程包括（）这几步。

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晶体中，每个原子在晶格中有一定的平衡位置，原子在此位置时其势能为（）。

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由于水中阴阳离子都有导电能力，所以水的（）越高，水中离子数就越少。

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用真空蒸发与溅射法在硅片或二氧化硅膜上涂敷金属材料，是形成电极的（）。

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在各种离子源常用的放电方式中，EOS是指有（）。

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