硅中的杂质只有一部分被真正激活，并提供用于导电的电子或空穴（大约3%~5%），大多数杂质仍然处在间隙位置，没有被电学激活。

在硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤：预淀积、推进和激活。

判断题查看答案

离子注入会将原子撞击出晶格结构而损伤硅片晶格，高温退火过程能使硅片中的损伤部分或绝大部分得到消除，掺入的杂质也能得到一定比例的电激活。

判断题查看答案

硅中固态杂质的热扩散需要三个步骤（）、（）和（）。

填空题查看答案

杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。

填空题查看答案

碱炼主要除去油脂中的（），同时去除部分（）、（）等杂质。

填空题查看答案

连锁代谢反应中的一个酶被激活后，连续地发生其他酶被激活，导致原始信使的放大。这样的连锁代谢反应系统称为（）系统。

填空题查看答案

聚半乳糖醛酸中的羧基80%以上被甲基化、一部分被中和成盐，所形成的物质称为：（）.

填空题查看答案

一般来说，数据通信双方只有在它们之间建立（）之后才能真正有效地进行数据通信。

单选题查看答案

车用机油压力表中的双金属片被电流加热时，只有在它的工作臂和补偿臂两者温度差跔大时，才发生触点的（）

单选题查看答案