A离子注入
B溅射
C淀积
D扩散
在空位扩散中,如果迁移的空位的原子是杂质原子,扩散称为()。
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离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成()离子,并通过一个引出系统形成离子束。
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二氧化硅生长过程中,当分凝系数小于1时,会使二氧化硅-硅界面处硅一侧的杂质浓度()。
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由于离子交换树脂反应,它既可以去除水中杂质离子,又可以将失效树脂进行处理,恢复交换能力,所以称为()反应。
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半导体硅常用的施主杂质是()。
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危害半导体工艺的典型金属杂质是()。
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半导体硅常用的受主杂质是()。
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下列扩散杂质源中,()不仅是硅常用的施主杂质,也是锗常用的施主杂质。
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钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是()杂质。
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