在空位扩散中，如果迁移的空位的原子是杂质原子，扩散称为（）。

在空位扩散中，如果迁移到空位的原子是基质原子，扩散属于（）。

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如果磷在二氧化硅中扩散，对扩散率影响最大的因素是：（）。

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对于浓度覆盖很宽的杂质原子，可以采用（）方法引入到硅片中。

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下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。

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如果固体中的原子排列情况是紊乱的，就称之为（）。

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离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。

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扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。

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在确定扩散率的实验中，扩散层电阻的测量可以用（）测量。

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钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。

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