一般用（）测量注入的剂量。

当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加，趋于饱和。开始饱和的注入剂量称为（）。

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当注入剂量增加到某个值时，损伤量不再增加，趋于饱和。饱和正是对应连续（）的形成。

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（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体表面，使其中离子注入层在极短的时间内达到高温，消除损伤。

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在确定扩散率的实验中，扩散层电阻的测量可以用（）测量。

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用电容－电压技术来测量扩散剖面分布是用了（）的原理。

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离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。

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早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。

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离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。

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对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。

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