恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为（）分布。

恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布？（）

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在扩散之前在硅表面先沉积一层杂质，在整个过程中这层杂质作为扩散的杂质源，不再有新的杂质补充，这种扩散方式称为：（）

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假设进行一次受固溶度限制的预淀积扩散，从掺杂玻璃源引入的杂质总剂量为Qcm-2。

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以P2O5为例，多晶硅中杂质扩散的方式及分布情况。

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什么是扩散效应？什么是自掺杂效应？这两个效应使得衬底/外延界面杂质分布有怎样的变化？

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热退火用于消除离子注入造成的损伤，温度要低于杂质热扩散的温度，然而，杂质纵向分布仍会出现高斯展宽与拖尾现象，解释其原因。

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片状源扩散具有设备简单，操作方便，晶片缺陷少，均匀性、重复性和表面质量都较好，适于批量生产，应用越来越普遍。（）

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二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行（）扩散。

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杂质原子在半导体中的扩散机理比较复杂，但主要可分为（）扩散和（）扩散两种。

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