A刻制图形
B绘制图形
C制作图形
光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。
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光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的,曝光后硬化成不可溶解的物质,这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂,由此组成的光刻胶称为负性胶。()
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简述光刻工艺原理及在芯片制造中的重要性?
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什么叫光刻?光刻工艺质量的基本要求是什么?
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光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。()
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典型的光刻工艺主要有哪几步?简述各步骤的作用。
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在光刻中,能够在增加分辨率的同时增加聚焦深度吗?为什么?
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什么是光刻中常见的表面反射和驻波效应?如何解决?
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浸没式光刻机相对于传统的光刻机有何不同。
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