典型的光刻工艺主要有哪几步？简述各步骤的作用。
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半导体芯片制造工艺对水质的要求一般.（）
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简述在芯片制造中对金属电极材料有什么要求？
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什么叫光刻？光刻工艺质量的基本要求是什么？
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气中的一个小尘埃将影响整个芯片的（）性、（）率，并影响其电学性能和（）性，所以半导体芯片制造工艺需在超净厂房内进行。
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为什么说洁净技术是半导体芯片制造过程中的一项重要技术？
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光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。（）
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光刻工艺一般都要经过涂胶、（）、曝光、（）、坚膜、腐蚀、（）等步骤。
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光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在半导体晶片表面的掩膜层上的工艺（）
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