光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。

光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？

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何为分辨率、对比度、IC制造对光刻技术有何要求？

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什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。

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光刻加工技术的基本过程通常包括哪些步骤？

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微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。

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如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。

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典型的DUV光刻胶曝光剂量的宽容度是多少？

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步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。

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曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。

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