什么是光刻加工技术?试简述光刻加工的原理和工艺流程。
简答题查看答案
光刻包括两种基本的工艺类型:负性光刻和(),两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同,前者是(),后者是()。
填空题查看答案
最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。
判断题查看答案
微细加工工艺方法主要有:(),光刻加工,体刻蚀加工技术,面刻蚀加工技术,LIGA技术,()和()。
光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。
光刻工艺包括哪些工艺?
简述光刻工艺的8个基本步骤。
光刻加工的工艺过程为:()
单选题查看答案
一般汽车修理工艺过程有哪几步?
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