简答题

光刻工艺的主要流程有哪几步?什么是光刻工艺的分辨率?从物理角度看,限制分辨率的因素是什么?最常用的曝光光源是什么?

正确答案

光刻的工艺流程共分7步:(1)涂胶,(2)前烘,(3)曝光,(4)显影,(5)坚膜(6)刻蚀,(7)去胶。分辨率是指线条和间隔清晰可辨时每mm中的线对数。从物理的角度看,限制分辨率的因素是衍射。最长用的曝光光源是紫外光。

答案解析

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