光刻加工采用的曝光技术中具有最高分辨率的是（）。
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光刻工艺的主要流程有哪几步？什么是光刻工艺的分辨率？从物理角度看，限制分辨率的因素是什么？最常用的曝光光源是什么？
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光学光刻技术的改进有哪些方面？
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微细加工工艺方法主要有：（），光刻加工，体刻蚀加工技术，面刻蚀加工技术，LIGA技术，（）和（）。
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给出硅片制造中光刻胶的两种目的。
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光刻是集成电路制造工艺发展的驱动力。
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在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。
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什么是光刻加工技术？试简述光刻加工的原理和工艺流程。
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光刻技术
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