射程在垂直入射方向的平面内的投影长度称之为（）。

离子散射方向与入射方向的夹角，称为（）。

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对于非晶靶，离子注入的射程分布取决于（）。

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（）是指每个入射离子溅射出的靶原子数。

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损伤的分布与注入离子在在靶内的（）的分布密切相关。

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如果固体中的原子排列情况是紊乱的，就称之为（）。

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离子束垂直进入均匀的正交磁场后，将同时受到电场力和（）的作用。

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干氧氧化中，氧化炉内的气体压力应（）一个大气压。

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悬浮在空气中的颗粒称为（）。

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在VLSI工艺中，常用的前烘方法是（）。

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