在各种离子源常用的放电方式中，EOS是指有（）。

离子源腔体中的气体放电形成（）而引出正离子的。

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离子源产生的离子在（）的加速电场作用下得到加速。

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（）的气体源中一般包含H+，C+，B+，Cl+，O+等离子。

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离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。

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离子注入的主要气体源中，易燃、易爆的有（）。

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离子源的作用是使所需要的杂质原子电离成（）离子，并通过一个引出系统形成离子束。

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离子源的基本结构是由产生高密度等离子体的（）和引出部分组成。

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下列扩散杂质源中，（）不仅是硅常用的施主杂质，也是锗常用的施主杂质。

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钠、钾等大离子在二氧化硅结构中是（）杂质。

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