A对
B错
金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()
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根据原理分类,干法刻蚀分成几种?各有什么特点?
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在干法刻蚀的终点检测方法中,光学放射频谱分析法最常见,简述其工作原理和优缺点。
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腐蚀V形槽一般采用()的湿法化学腐蚀方法。
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光刻工艺要求掩膜版图形黑白区域之间的反差要低。()
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反应离子腐蚀是()。
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腐蚀二氧化硅的水溶液一般是用()
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光刻工艺一般都要经过涂胶、()、曝光、()、坚膜、腐蚀、()等步骤。
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在MEMS加工中,为了精确控制腐蚀深度,有哪几种腐蚀停止技术,分别说一下其腐蚀停止原理。
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