AOxide
BNitride
CSilicide
DPolycide
请在下列选项中选出多晶硅化金属的英文简称:()。
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有机性气体大多产生在下列哪道工艺()。
铜互连金属多层布线中,磨料的粒径一般为()。
化学气相沉积的英文名称的缩写为()。
静电释放的英文简述为()。
物理气相沉积简称()。
在新一代的CMP中,有使用()磨料在金属表面上形成软质皮膜并加以去除的趋势。
危害半导体工艺的典型金属杂质是()。
请列举其它的焊接方法。
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